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哪些因素會直接影響涂層質(zhì)量?涂層厚度如何測量?

來源:林上 發(fā)布時間:2020/01/11 11:07:00 瀏覽次數(shù):4421

影響涂層厚度均勻性的因素

若磁控源在整個靶面上的濺射不均勻,會導(dǎo)致涂層厚度不均勻。因此,在設(shè)計磁控源時,合理安排磁體結(jié)構(gòu),使邊線或兩端的磁場強度大于中間的磁場強度,便可改善膜厚的分布。鍍件相對于磁控源有各種不同的運動方式,應(yīng)根據(jù)磁控源的形狀而定。行星機構(gòu)運動方式的成膜性均勻,臺階覆蓋性能好,鍍件裝載量大,它便是經(jīng)常采用的運動方式。選擇磁控源和鍍件間的相對位置,讓鍍件運動,使其各表面受濺射的幾率相等。

涂層

影響涂層應(yīng)力的因素

不同的材料有不同的熱膨脹系數(shù),涂層材料與鍍件的熱膨脹系數(shù)相差越小,涂層因溫度變化產(chǎn)生的應(yīng)力就越小,金屬或合金的韌性愈好,則沉積涂層的應(yīng)力愈小。

涂層的應(yīng)力隨真空度的提高而降低,當(dāng)濺射時氬氣的分壓低于0.13Pa時,涂層一般不會產(chǎn)生應(yīng)力。

濺射粒子與鍍件的入射角度小于15°,不會產(chǎn)生應(yīng)力裂紋,大于15°后,涂層應(yīng)力裂紋隨角度的增大而增加。

鍍件加熱是產(chǎn)生應(yīng)力裂紋的主要原因之一,因此,鍍件的溫度一般控制在產(chǎn)生裂紋的臨界溫度以下。

影響涂層反射率的因素

一般濺射速率越大,得到的涂層反射率越高,但不同金屬涂層的反射率與濺射速率關(guān)系不同,應(yīng)通過試驗確定理想濺射速率。鍍件表面粗糙度愈低,則涂層反射率愈大,反之亦然。涂層的反射率隨膜厚的增加而降低,對不同的金屬材料,其影響程度也不一樣。一般涂層的反射率隨氬氣壓力的增加而急劇下降,因此,氬氣分壓應(yīng)控制在0.40~0.53Pa范圍內(nèi)。

涂層厚度測量

涂層測厚儀LS223

測量涂層厚度,需要使用涂層測厚儀。不同行業(yè)對儀器的需求不同,型號也不盡相同。通常說,更高的精度以及重復(fù)性更好的測厚儀,有利于廠家通過異常的膜厚數(shù)據(jù)判斷出工藝過程中出現(xiàn)的問題,究竟是原料出現(xiàn)問題了還是噴涂設(shè)備存在故障,盡可能減少產(chǎn)品質(zhì)量缺陷進,從而達到質(zhì)量控制的目的。而林上LS223涂層測厚儀。儀器具有以下特點:

1、儀器設(shè)計簡單,無需頻繁校準(zhǔn)只需要簡單調(diào)零即可開始測量。

2、采用紅寶石測頭,耐磨耐腐蝕儀器經(jīng)久耐用。

3、儀器在Fe/NFe模式下可以自動識別測量基材,并快速自動轉(zhuǎn)換。

4、涂層測厚儀的探頭采用先進的數(shù)字探頭技術(shù),測量數(shù)據(jù)不易受到干擾保證了測量精度。

5、主機與探頭采用分離式設(shè)計。

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