光刻機(jī)是半導(dǎo)體原件制造的核心設(shè)備之一。應(yīng)用范圍比較廣泛，按照用途主要可以分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)，用于封裝的光刻機(jī)，用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。本文我們就主要了解一下半導(dǎo)體行業(yè)的光刻機(jī)，以及UV能量計(jì)在半導(dǎo)體光刻行業(yè)的應(yīng)用。

一、什么是光刻機(jī)

光刻機(jī)又名光刻系統(tǒng)、曝光機(jī)、對(duì)準(zhǔn)曝光等。半導(dǎo)體主要用于集成電路。就是利用模板去除晶圓表面的保護(hù)膜，將晶圓浸泡在腐化劑中。然后失去保護(hù)的部分就會(huì)被腐蝕掉形成電路。在這個(gè)過(guò)程當(dāng)中光刻機(jī)的主要作用就是利用紫外線通過(guò)模板去除晶圓表面的保護(hù)設(shè)備，一般用UV能量計(jì)來(lái)監(jiān)測(cè)紫外線的能量。

所以根據(jù)模板的不同光刻機(jī)主要可以分為兩種。

1、模板和晶圓的大小一樣，模板不動(dòng)光刻機(jī)動(dòng)。

2、模板和集成電路的大小一樣，模板隨光刻機(jī)的聚焦而移動(dòng)。

二、光刻機(jī)的應(yīng)用原理

光刻機(jī)有不同的光刻方法，其中紫外光刻最為常見。目前紫外光刻在光刻技術(shù)中占領(lǐng)主導(dǎo)地位，按照波長(zhǎng)可以分為紫外、深紫外和極光紫外。按照曝光方式可以分為接觸接近式光刻和投影式光刻。接觸接近式光刻通常是由汞燈產(chǎn)生的，在半導(dǎo)體行業(yè)的光刻機(jī)上通常用球型高壓汞燈，峰值波長(zhǎng)通常為365nm。

三、光刻機(jī)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的影響。

光刻機(jī)經(jīng)常會(huì)容易出現(xiàn)曝光過(guò)度或者曝光不足的現(xiàn)象，所以我們一定要正確地控制好曝光時(shí)間。這樣才能得到高質(zhì)量的晶圓電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)過(guò)清洗烘干、涂底、光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等等。越復(fù)雜的半導(dǎo)體線路的層數(shù)就越多，曝光的過(guò)程的控制就嚴(yán)格的控制。

所以當(dāng)光刻機(jī)的曝光不足時(shí)可能出現(xiàn)線路出現(xiàn)誤差，或者電路圖不清晰軟膠變軟。甚至脫落。脫膠現(xiàn)象。曝光過(guò)度會(huì)產(chǎn)生圖像偏差或者損壞電子元器件。所以光刻機(jī)要對(duì)半導(dǎo)體的曝光時(shí)間和光照強(qiáng)度都要進(jìn)行嚴(yán)格的監(jiān)控。

四、用儀器來(lái)檢測(cè)光刻機(jī)

林上LS120是一款高壓汞燈專用的UV能量計(jì)，所以非常適用于半導(dǎo)體光刻機(jī)球形汞燈。儀器的光譜響應(yīng)范圍為315-400nm，具有以下的特點(diǎn)：

1、取樣速度為2048次/秒，測(cè)量精度高。

2、儀器可以連接USB接口，電腦軟件可以詳細(xì)地記錄數(shù)據(jù)，進(jìn)行曲線分析以及打印輸出測(cè)試報(bào)告。

3、內(nèi)置隔熱片，具有耐高溫設(shè)計(jì)，可長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行在100攝氏度的溫度環(huán)境當(dāng)中。

4、儀器內(nèi)置容量大，可以記錄3800多條溫度數(shù)據(jù)，6萬(wàn)多條功率數(shù)據(jù)。

林上LS120UV能量計(jì)取樣速度快，測(cè)量精度高。很適合光刻機(jī)對(duì)曝光時(shí)間和曝光強(qiáng)度的嚴(yán)格檢測(cè)，詳情可咨詢林上科技官網(wǎng)！